При помощи программно-аппаратного комплекса на основе многоканального зонда показан процесс перемешивания двух плазменных потоков в один на выходе двухканального вакуумно-дугового источника плазмы с T-образным фильтром. Перемешивание достигалось при помощи создания ослабленного магнитного поля в области выхода фильтра, оно продемонстрировано в виде набора трехмерных распределений плотности выходного тока. Также аналогичным способом продемонстрирован асимметричный режим работы двухканального T-фильтра, что необходимо для регулировки состава многокомпонентных покрытий, осаждаемых из смешанного потока плазмы. Изучена корреляция между величиной плотности выходного тока, измеряемой комплексом, и толщиной покрытия.
За допомогою програмно-апаратного комплексу на основі багатоканального зонда показано процес перемішування двох плазмових потоків в один на виході двоканального вакуумно-дугового джерела плазми з T-подібним фільтром. Перемішування досягалося за допомогою створення послабленого магнітного поля в області виходу фільтра та продемонстровано у вигляді набору тривимірних розподілів густини вихідного струму. Також аналогічним чином продемонстровано асиметричний режим роботи двоканального T-фільтра, що є необхідним для регулювання складу багатокомпонентних покриттів, осаджуваних із змішаного потоку плазми. Вивчено кореляцію між величиною густини вихідного струму, що вимірюється за допомогою комплексу, та товщиною покриття.
Software-hardware complex based on multi-channel probe was used to show the process of two plasma streams mixing into single one at the output of two-channel vacuum arc plasma source with T-shaped filter. The mixing was attained by generating a weakened magnetic field at the output region of the filter and was shown in a form of three-dimensional output current density distributions. Asymmetrical working mode of two-channel T-filter was shown similar way, which is needed for an adjustment of multi-component coatings composition from a mixed plasma stream. Correlation between complex-measured value of output current density and coating thickness was also investigated.
