Assembling of MoS₂-based photosensitive organic-inorganic nanocomposites by exfoliation-restacking technique

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізико-технічних проблем матеріалознавства
→
Functional Materials
→
Functional Materials, 2006, том 13
→
Functional Materials, 2006, № 3
→
Переглянути статтю

Assembling of MoS₂-based photosensitive organic-inorganic nanocomposites by exfoliation-restacking technique

Golub, A.S. ; Lenenko, N.D. ; Novikov, Yu.N. ; Rumyantsev, B.M. ; Bibikov, S.B. ; Zhuravleva, T.S.

Інші назви: Складання фоточутливих органіко-неорганічних нанокомпозитів на основі MoS₂ методом розшатування-перепакування

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/135030

Посилання: Assembling of MoS₂-based photosensitive organic-inorganic nanocomposites by exfoliation-restacking technique / A.S. Golub, N.D. Lenenko, Yu.N. Novikov, B.M. Rumyantsev, S.B. Bibikov, T.S. Zhuravleva // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 3. — С. 502-506. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Дата: 2006

Завантажень: 334

Assembling of MoS₂-based photosensitive organic-inorganic nanocomposites by exfoliation-restacking technique

Анотація:

New nanocomposite compounds containing alternating layers of molybdenum disulfide and organic compound (dyes, polyvinyl alcohol) have been synthesized using sigle-layer dispersions obtained by exfoliation of bulk MoS₂ crystals. The formation mechanism of those compounds as weel as their structure are discussed. The data on photoelectric sensitivity of the system consisting of MoS₂-polyvinyl alcohol nanocomposite and some photoconductive polymers are reported.

Показати повний запис статті