Photostimulated etching of germanium chalcogenide films

Dan’ko, V.A. ; Indutnyi, I.Z. ; Myn’ko, V.I. ; Shepeliavyi, P.E. ; Lukyanyuk, M.V. ; Litvin, O.S.
Інший ID: PACS 81.65.Cf
URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118724
Посилання: Photostimulated etching of germanium chalcogenide films / V.A. Dan’ko, I.Z. Indutnyi, V.I. Myn’ko, P.E. Shepeliavyi, M.V. Lukyanyuk, O.S. Litvin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2012. — Т. 15, № 4. — С. 345-350. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.
Дата: 2012
Переглядів: 755
Завантажень: 767
Photostimulated etching of germanium chalcogenide films

Анотація:

The new effect of photostimulated dissolution of as-evaporated and annealed Ge-based chalcogenide glass (ChG) films was investigated in detail. The etching rate increases with the illumination intensity, and its spectral dependence is correlated with absorption in the film at the absorption edge. A possible mechanism for the photoinduced etching of ChG films has been discussed. The high-frequency diffraction gratings on germanium ChG – more environmentally acceptable compounds than traditionally used arsenic chalcogenides – were recorded using the method of interference immersion photolithography with photoinduced etching.

Показати повний запис статті

Файли у цій статті

Icon
Name: 08-Dan’ko.pdf
Розмір: 4.136Мб
Формат: PDF
Перегляд/Відкрити

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис