Изучено фото- и тензочувствительность нанокристаллических тонких пленок p-CdTe при различных деформациях. Наблюдалось увеличение фото- и тензочувствительности в зависимости от деформации-растяжения. Установлено, что деформация растяжения увеличивает не только высоты микропотенциальных барьеров, но и их асимметрию на границах кристаллитов, которые благоприятствуют образованию высокой фото- и тензочувствительности в тонких пленках. Это объясняется изменением высоты потенциальных барьеров на границах кристаллитов за счет изменения поверхностных состояний.
Вивчено фото- і тензочутливість нанокристалічних тонких плівок p-CdTe при різних деформаціях. Спостерігалося збільшення фото- і тензочутливості в залежності від дефор-мації розтягування. Встановлено, що деформація розтягування збільшує не лише висоти мікропотенціальних бар’єрів, але і їх асиметрію на границях кристалітів, які сприяють утворенню високої фото- і тензочутливості в тонких плівках. Це пояснюється зміною висоти потенціальних бар’єрів на границях кристалітів за рахунок змінювання поверхневих станів.
Studied photo and tensosensitivity nanocrystalline thin films of p-CdTe under various deformations. There was an increase in photographic sensitivity and tensor depending on the strain, tension. It was found that the tensile strain increases not only the height of micropotential barriers, but their asymmetry on the boundaries of the crystallites which favors the formation of a high photo and tensosensitivity in thin films. This is due to a change in the height of the potential barriers at the boundaries of the crystallites due to changes in surface states.