Вплив відпалу на структуру поверхні плівок Ni₂MnGa

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Металлофизика и новейшие технологии
→
Металлофизика и новейшие технологии, 2016 (том 38)
→
Металлофизика и новейшие технологии, 2016, № 09
→
Переглянути статтю

Вплив відпалу на структуру поверхні плівок Ni₂MnGa

Інші назви: Влияние отжига на структуру поверхности плёнок Ni₂MnGa
Influence of Annealing on Structure of a Surface of Films of Ni₂MnGa

Тема: Металлические поверхности и плёнки

Інший ID: DOI: 10.15407/mfint.38.09.1179
PACS: 07.05.Pj, 68.35.Ct, 68.37.Hk, 68.37.Ps, 68.55.J-, 68.65.Ac, 81.40.Ef

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112610

Посилання: Вплив відпалу на структуру поверхні плівок Ni₂MnGa / Ю. Б. Скирта // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 9. — С. 1179-1194. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.

Підтримка: Плівки, які нами було використано у роботі, було виготовлено в університеті Токіо, Сенсаї, Японія. Автори вдячні проф. В. А. Черненку (Університет Країни Басків, Іспанія) за надані зразки і допомогу в роботі над статтею.

Дата: 2016

Завантажень: 359

Вплив відпалу на структуру поверхні плівок Ni₂MnGa

Анотація:

Поверхню плівок Ni₂MnGa досліджено за допомогою атомно-силової, оптичної та електронної мікроскопій. Розраховано статистичні параметри поверхні плівок. Розроблено алґоритм виділення зерен на зображеннях. Досліджено закономірності впливу відпалу на параметри поверхні плівок.

Поверхность плёнок Ni₂MnGa исследована при помощи атомно-силовой, оптической и электронной микроскопий. Рассчитаны статистические параметры изображений поверхности плёнок. Разработан алгоритм выделения зёрен на изображениях. Исследованы закономерности влияния отжига на параметры поверхности плёнок.

Surface of Ni₂MnGa films is studied using atomic force, optical, and electron microscopies. Statistical parameters of images of films’ surface are calculated. An algorithm for selection of grains in the images is developed. The regularities of the effect of annealing on the parameters of the films’ surface are investigated.

Показати повний запис статті