Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации

Abstract

Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренными собственными ионами исключило формирование столбчатой структуры в покрытиях и, как следствие, сквозную пористость. По сравнению с электродуговым способ ионизации паров Me-Cr-Al-Y высокочастотным электромагнитным полем позволяет подавить капельную фракцию конденсирующегося потока плазмы. Исследованы в сравнении характеристики микроструктуры двух указанных типов конденсатов Me-Cr-Al-Y в зависимости от способа ионизации, температуры осаждения и отжига.

Техніка та технологія атомно-іонного розпилення (АІР) у варіантах електродугового і високочастотного збудження плазми в парах Me-Cr-Al-Y були використані для нанесення жаростійких вакуумних покриттів. Зниження температури підкладки в умовах бомбардування поверхні зростаючого конденсату прискореними власними іонами виключило формування стовбчастої структури в покриттях і, як наслідок, наскрізну пористість. У порівнянні з електродуговим спосіб іонізації парів Me-Cr-Al-Y високочастотним електромагнітним полем дозволяє подавити крапельну фракцію потоку плазми, що конденсується. Досліджено в порівнянні характеристики мікроструктури двох зазначених типів конденсатів Me-Cr-Al-Y залежно від способу іонізації, температури осадження та відпалу.

Technique and technology of atomic-ion sputtering (AIS) in variants of electric-arc high-frequency plasma excitation in pairs of Me-Cr-Al-Y was used for the application of vacuum heat-resistant coatings. Lowering the temperature of the substrate in a surface growing condensation bombardment that accelerated their own ions excluded the columnar structure formation in the coatings and, consequently, through porosity. Compared with electric arc, a ionization pairs Me-Cr-Al-Y way by high-frequency electromagnetic field can suppress the droplet fraction condensing in the plasma current. Studied in comparison the microstructure characteristics of these two condensates Me-Cr-Al-Y types, depending on the ionization method, deposition temperature and annealing.