Вплив сурфактантних підшарів германію субатомної товщини на структуру та низькотемпературну термо-е.р.с. ультратонких плівок золота та міді

Abstract

Досліджено структуру та електричні властивості плівок золота та міді, нанесених в умовах надвисокого вакууму (тиск залишкових газів Р < 10⁻⁷ Па) на поверхню оплавленого полірованого скла, попередньо покриту підшаром германію масовою товщиною в декілька атомних шарів. Використано раніше запропоновану авторами методику формування металевих плівок із попередньо заданими середніми лінійними розмірами кристалів, величина яких у площині, паралельній підкладці, не залежить від товщини плівки металу, а визначається параметрами підшару германію. Результати дослідження електропровідності та термоелектрорушійної сили пояснено на основі сучасних модельних уявлень про перенесення заряду в зразках обмежених розмірів.

Исследованы структура и электрические свойства плёнок золота и меди, сформированных в условиях сверхвысокого вакуума (давление остаточных газов Р < 10⁻⁷ Па) на поверхности оплавленного полированного стекла, предварительно покрытой подслоем германия массовой толщиной в несколько атомных слоев. Использована ранее предложенная авторами методика приготовления металлических плёнок с наперед заданными средними линейными размерами кристаллитов, величина которых в плоскости, параллельной подложке, не зависит от толщины пленки металла, а определяется параметрами подслоя германия. Результаты исследования электропроводности и термоэлектродвижущей силы описаны на основе современных модельных представлений о переносе заряда в образцах ограниченных размеров.

The structure and electrical properties of thin gold and copper films deposited under ultra high vacuum conditions on glass surface and on glass surface with predeposited germanium sublayer are investigated. The early-proposed method of thin film fabrication allows grain formation with predicted sizes, which depend on only germanium layer parameters. Experimental data for electrical conductivity and differential thermal electromotive force of thin metal films are explained in the framework of modern theories of electron transport phenomenon in samples of limited sizes.