Перегляд за автором "Луканюк, М.В."

Результати 1-7 з 7

Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол

Данько, В.А.; Індутний, І.З.; Минько, В.І.; Шепелявий, П.Є.; Литвин, О.С.; Луканюк, М.В. (Оптоэлектроника и полупроводниковая техника, 2012)

Виявлено ефект фотостимульованого підвищення розчинності відпалених плівок халькогенідних скловидних напівпровідників (ХСН) в селективних протравлювачах на основі амінів. Встановлено, що швидкість травлення підвищується ...
Оптическая запись микро- и наноразмерных рельефных структур на неорганических резистах Ge-Se

Индутный, И.З.; Крючин, А.А.; Бородин, Ю.А.; Данько, В.А.; Луканюк, М.В.; Минько, В.И.; Шепелявый, П.Е.; Гера, Э.В.; Рубиш, В.М. (Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2013)

Представлены результаты экспериментальных исследований по записи микрорельефных структур сфокусированным лазерным излучением с длиной волны 405 нм на пленках неорганических фоторезистов системы Ge - Se. Показано, что ...
Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу

Данько, В.А.; Індутний, І.З.; Ушенін, Ю.В.; Литвин, П.М.; Минько, В.І.; Шепелявий, П.Є.; Луканюк, М.В.; Корчовий, А.А.; Христосенко, Р.В. (Наука та інновації, 2017)

Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана. Підвищення ...
Технологія виробництва голограмних дифракційних граток на основі неорганічних вакуумних фоторезисторів

Данько, В.А.; Індутний, І.З.; Луканюк, М.В.; Минько, В.І.; Шепелявий, П.Є. (Наука та інновації, 2014)

Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу формування голограмних дифракційних ґраток, який дає можливість виготовляти високоякісні дифракційні елементи з просторовими частотами від 600 до 3600 мм⁻¹ для ...
Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів

Данько, В.А.; Дмитрук, М.Л.; Індутний, І.З.; Мамикін, С.В.; Минько, В.І.; Литвин, П.М.; Луканюк, М.В.; Шепелявий, П.Є. (Оптоэлектроника и полупроводниковая техника, 2015)

У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур ...
Фотолітографія на реверсивних та перехідних фотостимульованих структурних перетвореннях у ХСН (огляд)

Данько, В.А.; Індутний, І.З.; Луканюк, М.В.; Минько, В.І.; Пономарьов, С.С.; Шепелявий, П.Є.; Юхимчук, В.О. (Оптоэлектроника и полупроводниковая техника, 2015)

Описано розроблені фотолітографічні процеси на базі реверсивних та перехідних фотоструктурних змін у відпалених плівках халькогенідних скловидних напівпровідників (ХСН). Показано, що негативні протравлювачі на основі амінів ...
Фотостимульовані реверсивні перетворення у плівках Ge-Se як основа резистивного процесу

Бабійчук, І.В.; Данько, В.А.; Індутний, І.З.; Луканюк, М.В.; Минько, В.І.; Шепелявий, П.Є. (Оптоэлектроника и полупроводниковая техника, 2014)

Досліджено закономірності резистивного процесу на відпалених шарах стекол розрізу Ge-Se та вивчено можливості створення за його допомогою складних рельєфно-фазових структур чи літографічних масок. Показано, що даний ...

Результати 1-7 з 7

Пошук

Розширений пошук

Перегляд

Вся бібліотека

Перегляд за автором "Луканюк, М.В."

Репозиторій DSpace/Manakin

Перегляд за автором "Луканюк, М.В."

Пошук

Перегляд

Вся бібліотека

Мій обліковий запис