Рубцевич, И.И.; Соловьев, Я.А.; Высоцкий, В.Б.; Дудкин, А.И.; Ковальчук, Н.С.
(Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2011)
Исследованы режимы осаждения пленок нитрида и оксида кремния методам PECVD. Установлена связь между ключевыми параметрами процесса осаждения и скоростью осаждения, а также уровнем внутренних механических напряжений в пленках.