Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, ...

В данной работе представлены результаты экспериментального исследования ВЧ емкостного разряда в SF₆, NF₃ и SiH₄ низкого давления.

Проведен анализ эффектов, связанных с бомбардировкой поверхности сложной формы частицами, в широко используемых плазменных процессах нанесения покрытий, объектом изучения которого является регулярная последовательность ...

Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока от микрочастиц. На основе расчета скоростей ...

Предложена модернизация вакуумно-дуговых установок, в том числе типа “Булат” и ННВ 6.6, для реализации метода плазменной ионной имплантации и осаждения (метод PBII&D). Процессы ионного азотирования изделий и последующего ...

Использование временных рядов и регрессионного анализа, совместно с вычислением размерности вложения “временного ряда” позволило разработать методику определения эффективной плотности электронных поверхностных состояний ...

В данной работе приводятся результаты экспериментальных исследований физических процессов в сверхтонкой – порядка 40 мкм газоразрядной ячейке с полупроводниковым электродом. Экспериментально подтверждается, что основным ...

Исследованы чувствительные к наложенной деформации объемные и пленочные варианты гетерогенных сред (ГС) на основе теллуридов висмута-сурьмы, селенидов свинца а также карбонильного железа. Изучен характер необратимого ...

С помощью Резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия (РОР) и пучка протонов, растровой электронной микроскопии (РЭМ) с микроанализом (WDS), рентгенофазового анализа (РФА), измерения микротвердости и измерения износа ...